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鹼性蝕刻廢液再利用技術-中和結晶法(產製硫酸銅及氫氧化銅)

• 廢棄物種類
  廢酸鹼
• 國內外技術
  國外
• 技術名稱
  鹼性蝕刻廢液再利用技術-中和結晶法(產製硫酸銅及氫氧化銅)
• 技術簡介
  本技術係針對印刷電路板於蝕刻製程採用氯化銨系蝕刻液，用以溶蝕表面線路，所產生之氯化銨蝕刻廢液，即所謂鹼性蝕刻廢液，該廢液之銅離子濃度一般約為86~162 g/L。應用中和原理，加硫酸於鹼性蝕刻廢液中，中和反應後可析出氫氧化銅的固形物，該溶液壓濾後得到之氫氧化銅濾餅，以水及硫酸進行混合可得硫酸銅溶液，再經冷卻結晶及脫水烘乾後，即可得硫酸銅成品及脫水液，而脫水液可回至製程與鹼性蝕刻液進行中和反應。
• 再利用管道

  再利用管道

  管道	機構名稱	電話	地址	再利用能力 (公噸/月)
  許可再利用	先豐通訊股份有限公司觀音廠	03-4839611 ext 1901	桃園縣觀音鄉觀音工業區經建1路16號	800
  許可再利用	昶昕實業股份有限公司蘆竹廠	03-3544421	桃園縣蘆竹鄉海湖村海湖186-8號	1,800
  許可再利用	利津實業有限公司	03-4831682	桃園縣觀音鄉經建三路27號	1,285

  
  註：上述管道係彙整自環保署事業廢棄物管制資訊網，其再利用許可至99年12月底仍屬有效之再利用機構，查詢網址。
• 資源化流程
  

  資源化流程說明：本技術係針對印刷電路板於蝕刻製程採用氯化銨系蝕刻液，用以溶蝕表面線路，所產生之氯化銨蝕刻廢液，即所謂鹼性蝕刻廢液，該廢液之銅離子濃度一般約為86~162 g/L。應用中和原理，加硫酸於鹼性蝕刻廢液中，中和反應後可析出氫氧化銅的固形物，該溶液壓濾後得到之氫氧化銅濾餅，以水及硫酸進行混合可得硫酸銅溶液，再經冷卻結晶及脫水烘乾後，即可得硫酸銅成品及脫水液，而脫水液可回至製程與鹼性蝕刻液進行中和反應。
• 資料來源
  經濟部工業局，印刷電路板業資源化應用技術手冊，pp.41-54，2009。